偏光解析法

偏光解析法またはエリプソメトリー(ellipsometry)とは偏光を利用した分析手法。

概要

光を透過しない金属等の光学定数（屈折率と消衰係数）を測定する手法として1887年にパウル・ドルーデによって考案された^[1]。

偏光が試料で反射される際に生じる偏光状態の変化からその試料の光学定数を決定する^[2]。

^ Drude, Paul. "Ueber die Gesetze der Reflexion und Brechung des Lichtes an der Grenze absorbirender Krystalle." Annalen der Physik 268.12 (1887): 584-625.
^ 川畑州一「偏光解析法の基礎と応用」『表面科学』第35巻第6号、日本表面科学会、2014年、286-293頁、doi:10.1380/jsssj.35.286、ISSN 0388-5321、NAID 130004718844。

土井康弘「偏光解析法の薄層の研究への応用(I)」『応用物理』第25巻第3号、応用物理学会、1956年、85-92頁、doi:10.11470/oubutsu1932.25.85、ISSN 0369-8009、NAID 130003587003。
木下是雄, 横田英嗣「偏光解析による表面と薄膜の研究」『応用物理』第34巻第11号、応用物理学会、1965年、782-794頁、doi:10.11470/oubutsu1932.34.782、ISSN 0369-8009、NAID 130003588131。
工藤清勝, 岡本剛「偏光解析法による金属表面被膜の研究」『材料』第17巻第179号、日本材料学会、1968年、656-666頁、doi:10.2472/jsms.17.656、ISSN 0514-5163、NAID 110002294381。
野田哲二, 工藤清勝, 佐藤教男「偏光解析法による鉄表面不働態皮膜の研究」『日本金属学会誌』第37巻第9号、日本金属学会、1973年、951-957頁、doi:10.2320/jinstmet1952.37.9_951、ISSN 0021-4876、NAID 130007339087。
梅野正義「偏光解析法(エリプソメトリ)とその応用」『応用物理』第46巻第9号、応用物理学会、1977年、889-890頁、doi:10.11470/oubutsu1932.46.889、ISSN 0369-8009、NAID 130003590307。