Trimethylindium

Trimethylindium
Structuurformule en molecuulmodel
Structuurformule van trimethylindium
Structuurformule van trimethylindium
Ball and stick model van trimethylindium
Ball and stick model van trimethylindium
Algemeen
Molecuulformule C 3 H 9 In {\displaystyle {\ce {C3H9In}}} ;
In ( CH 3 ) 3 {\displaystyle {\ce {In(CH3)3}}}
IUPAC-naam Trimethylindigane[1]
Andere namen Trimethylindaan, indium trimethyl
Molmassa 159,922 g/mol
SMILES
C[In](C)C
InChI
1/3CH3.In/h3*1H3;/rC3H9In/c1-4(2)3/h1-3H3
CAS-nummer 3385-78-2
EG-nummer 222-200-9
PubChem 76919
Wikidata Q4463086
Beschrijving witte, glazige kristallen
Waarschuwingen en veiligheidsmaatregelen
OntvlambaarCorrosief
Gevaar
H-zinnen H250 - H260 - H261 - H314 - H318
P-zinnen P210 - P222 - P223 - P231+P232 - P260 - P264 - P280 - P301+P330+P331 - P302+P334 - P303+P361+P353 - P304+P340 - P305+P351+P338 - P310 - P321 - P335+P334 - P363 - P370+P378 - P402+P404 - P405 - P422 - P501
Fysische eigenschappen
Dichtheid (20 °C) 1,568 g/cm³
Smeltpunt 88 °C
Kookpunt 134 °C
ontleedt vanaf 101 °C
Oplosbaarheid in water ontleedt g/L
Thermodynamische eigenschappen
ΔfHos 150.5-169.7 kJ/mol
Tenzij anders vermeld zijn standaardomstandigheden gebruikt (298,15 K of 25 °C, 1 bar).
Portaal  Portaalicoon   Scheikunde

Trimethylindium, vaak afgekort tot TMI of TMIn, is een organo-indium-verbinding met de formule C 3 H 9 In {\displaystyle {\ce {C3H9In}}} of met meer nadruk op de structuur: In ( CH 3 ) 3 {\displaystyle {\ce {In(CH3)3}}} . Het is een kleurloze, vaste pyrofore stof.[2] In tegenstelling tot trimethylaluminium, maar net als trimethylgallium, (methylverbindingen met elementen uit dezelfde groep) is TMI monomeer.[3]

Synthese

Van TMI zijn verschllende syntheses bekend:

2   In   + 3 Mg +   6 CH 3 Br   2 In ( CH 3 ) 3   +   3 MgBr 2 {\displaystyle {\ce {2\ In\ +3Mg+\ 6CH3Br->\ 2In(CH3)3\ +\ 3MgBr2}}}
  • Een tweede methode wordt gevormd door de metathese van Indium(III)chloride of Indium(III)bromide met Methyllithium.[4][5]
nCl 3   + 3 LiCH 3     3 LiCl   +   In ( CH 3 ) 3 {\displaystyle {\ce {nCl3\ +3LiCH3\ ->\ 3LiCl\ +\ In(CH3)3}}}
2 In   +   3 Hg ( CH 3 ) 2     3 Hg   +   2 In ( CH 3 ) 3 {\displaystyle {\ce {2 In \ + \ 3 Hg(CH3)2 \ -> \ 3 Hg \ + \ 2 In(CH3)3}}}

Eigenschappen

In vergelijking met trimethylaluminium en trimethylgallium, is In ( CH 3 ) 3 {\displaystyle {\ce {In(CH3)3}}} een zwakker lewiszuur. Het vormt adducten met secondaire amines en fosfines.[6] Van een complex met de heterocyclische triazine ligand ( i PrNCH 2 ) 3 {\displaystyle {\ce {(i-PrNCH2)3}}} is de structuur vastgesteld: Indium is zesvoudig gecoördineerd. De C In C {\displaystyle {\ce {C-In-C}}} -hoeken zijn 114°−117°. Met triazine worden drie lange bindingen van 278 pm gevormd, de N In N {\displaystyle {\ce {N-In-N}}} -hoek is 48.6°.[7]

Structuur

In de gasfase is In ( CH 3 ) 3 {\displaystyle {\ce {In(CH3)3}}} monomeer, met een trigonale, vlakke structuur. In benzeen-oplossingen vormt TMI tetrameren.[6] Als vaste stof komt TMI in twee vormewn voor: een tetragonale fase die ontstaat bij sublimatie, en een rombische fase met een lagere dichtheid die in 2005 gevonden werd toen TMI omgekristalliseerd werd uit hexaan.[8]

In de tetragonale vorm is In ( CH 3 ) 3 {\displaystyle {\ce {In(CH3)3}}} tetrameer zoals in de benzeen-oplossing en treden er bruggen op tussen de tetrameren, waardoor een oneindig netwerk ontstaat. Elk indium-atoom is vijfvijdig gecoördineerd in een vervormde trigonale bipyramide, in heg equatoriale vlak zijn de drie bindingen kort (ca. 216 pm) de axiale bindingen die de In ( CH 3 ) 3 {\displaystyle {\ce {In(CH3)3}}} -eenheden tot tetrameren binden zijn met 308 pm duidelijk langer. De In-C bindingen die de tetrameren tot het netwerk koppelen zijn nog langer, 356 nm.[9] In vaste toestand vertonen trimethylgallium ( Ga ( CH 3 ) 3 {\displaystyle {\ce {Ga(CH3)3}}} ) en trimethylthallium ( Tl ( CH 3 ) 3 {\displaystyle {\ce {Tl(CH3)3}}} ) een vergelijkbare structuur.[9] De vorming van het netwerk in de vaste toestand is verantwoordelijk voor het relatief hoge smeltpunt van 89°-89,8 °C in vergelijking met tri-ethylindium dat al smelt bij −32 °C.[6]

De rombische vorm van In ( CH 3 ) 3 {\displaystyle {\ce {In(CH3)3}}} vormt cyclische hexameren, waarbij de ring uit 6 C In {\displaystyle {\ce {C-In}}} -eenheden bestaat. De hexameren vormen ook een oneindig netwerk. De indium-atomen zijn opnieuw vijf-gecoördineerd met equatoriale C-In -bindigslengten van 216,7 pm, axiale C-In-bindingen (binnen het hexameer) van 302,8 pm en 313,4 pm voor de bindingen die het netwerk vormen.[8]

Toepassingen in de microelectronica

Indium is een component in verschillende halfgeleiders, waaronder indiumfosfide ( InP {\displaystyle {\ce {InP}}} ), indiumarside ( InAs {\displaystyle {\ce {InAs}}} ), indiumnitride ( InN {\displaystyle {\ce {InN}}} ), indiumantimonide ( InSb {\displaystyle {\ce {InSb}}} , Indium gallium arsenide { GaInAs {\displaystyle {\ce {GaInAs}}} , Aluminium gallium indium phosphide ( AlGaInP {\displaystyle {\ce {AlGaInP}}} ), AlInP {\displaystyle {\ce {AlInP}}} , and AlInGaNP {\displaystyle {\ce {AlInGaNP}}} . Deze materia;en worden allemaal verkregen via metalorganische dampfase epitaxy[10] (MOVPE <Eng.: metalorganic vapour-phase epitaxy) waarbij TMI meestal gebruikt wordt als de component waarmee het indium geleverd wordt. Een hoge graad van zuiverheid is in deze procedure vereist (99.9999% pure or greater).[11][12]

Dampdrukvergelijking

De dampdruk van TMI wordt beschreven met de vergelijkingequation log(P) = 10,98−3204/T. De druk P wordt hierbij uitgedrukt in torr, de temperatuur T in kelvin. Voor de meeste MOVPE-toepassingen voldoet deze formule.[13]

Veiligheid

TMI is een pyrofore stof.[14]

Bronnen, noten en/of referenties
  • Dit artikel of een eerdere versie ervan is een (gedeeltelijke) vertaling van het artikel Trimethylindium op de Engelstalige Wikipedia, dat onder de licentie Creative Commons Naamsvermelding/Gelijk delen valt. Zie de bewerkingsgeschiedenis aldaar.
  • Dit artikel of een eerdere versie ervan is een (gedeeltelijke) vertaling van het artikel Indiumtrimethyl op de Duitstalige Wikipedia, dat onder de licentie Creative Commons Naamsvermelding/Gelijk delen valt. Zie de bewerkingsgeschiedenis aldaar., met name de paragraaf met betrekking tot de synthese

Externe links

  • Interesting research notes by Linus Pauling in re: Trimethylindium and its structure; Notebook # 19, Page 049, August 1955.
  • Interactive Vapor Pressure Chart for metalorganics.

Verwijzingen in de tekst

  1. gegevens in PubChem van Trimethylindium , gecontroleerd op: 21 november 2022
  2. Bradley, D. C.; Chudzynska, H. C.; Harding, I. S. (1997). Trimethylindium and Trimethylgallium. Inorganic Syntheses 31: 67–74. DOI: 10.1002/9780470132623.ch8.
  3. Greenwood, Norman N.; Earnshaw, Alan (1997). Chemistry of the Elements (2nd ed.). Butterworth-Heinemann. p. 262. ISBN 978-0-08-037941-8.
  4. a b c Georg Brauer (Hrsg.), unter Mitarbeit von Marianne Baudler u. a.: Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie. 3., umgearbeitete Auflage. Band II, Ferdinand Enke, Stuttgart 1975, ISBN 3-432-02328-6, S. 864.
  5. a b Wiberg, E.; Wiberg, N.; Holleman, A.F.: Anorganische Chemie, 103. Auflage, 2017 Walter de Gruyter GmbH & Co. KG, Berlin/Boston, ISBN 978-3-11-026932-1, S. 1405–1407, (abgerufen über De Gruyter Online).
  6. a b c CVD of compound semiconductors, Precursor Synthesis, Development and Applications, Anthony C. Jones, Paul O'Brien, John Wiley & Sons, 2008, ISBN 3527292942
  7. Greenwood, Norman N.; Earnshaw, Alan (1997). Chemistry of the Elements (2nd ed.). Butterworth-Heinemann. p. 263. ISBN 978-0-08-037941-8.
  8. a b Lewiński, Janusz; Zachara, Janusz; Starowieyski, Kazimierz B.; Justyniak, Iwona; Lipkowski, Janusz; Bury, Wojciech; Kruk, Przemysław; Woźniak, Robert (2005). A Second Polymorphic Form of Trimethylindium: Topology of Supramolecular Architectures of Group 13 Trimethyls. Organometallics 24 (20): 4832–4837. ISSN: 0276-7333. DOI: 10.1021/om050386s.
  9. a b Inorganic Chemistry, (2d edition), Catherine E. Housecroft, Alan G. Sharpe, Pearson Education, 2005, ISBN 0130399132 , ISBN 978-0130399137
  10. Engelse Wikipedia: Metalorganic vapour-phase epitaxy
  11. Shenai, Deo V.; Timmons, Michael L.; Dicarlo, Ronald L.; Lemnah, Gregory K.; Stennick, Robert S. (2003). Correlation of vapor pressure equation and film properties with trimethylindium purity for the MOVPE grown III–V compounds. Journal of Crystal Growth 248: 91. DOI: 10.1016/S0022-0248(02)01854-7.
  12. Shenai, Deodatta V.; Timmons, Michael L.; Dicarlo, Ronald L.; Marsman, Charles J. (2004). Correlation of film properties and reduced impurity concentrations in sources for III/V-MOVPE using high-purity trimethylindium and tertiarybutylphosphine. Journal of Crystal Growth 272: 603. DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2004.09.006.
  13. Shenai-Khatkhate, Deodatta V.; Dicarlo, Ronald L.; Ware, Robert A. (2008). Accurate vapor pressure equation for trimethylindium in OMVPE. Journal of Crystal Growth 310 (7–9): 2395. DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2007.11.196.
  14. Chemistry of Materials (2000); DOI:10.1021/cm990497f